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磁控溅射镀膜设备 HELIOS 800
展商：Bühler Group
原产国/地区：德国
布勒莱宝光学 HELIOS 磁控溅射镀膜设备，致力于半导体制程中光学薄膜沉积，适用于8英寸和12英寸晶圆产品，晶圆表面直接镀制光学干涉薄膜可颠覆性替代传统半导体芯片和光学基片键合封装工艺。
展品详情
HELIOS 系列磁控溅射镀膜设备拥有高速稳定的沉积速率、极高的工艺稳定性、高精度的超薄膜厚控制。可用于超过200层和20μm厚的滤光片，具有最优膜层氧化率、高密度、低损耗的特点。可加工的薄膜器件包括激光滤光片、极高陡度截止滤光片、单/多通道负滤光片、激光反射镜、啁啾镜、偏振分光膜、分束镜、环境光传感器、接近光传感器、高光谱成像、手势和面部识别传感器、晶圆级光学、激光雷达传感器等，应用于消费类电子、生命科学、医疗、计量、基础科研等领域。